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CCMT2016在上海-PVT公司在现场
来源:PVT涂层 作者: 浏览次数:0
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  PVT公司也必将出席中国数控机床展览会(CCMT2016), 展出当前的最新技术,加百利•赫伯特博士(PVT公司总裁)在展会现场为客户介绍了最新技术,并将与感兴趣的参观者进行交流和洽谈。

普威特上海CCMT展会的展位号:E5-423,官方联系方式:13910219677
 

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  新技术主要集中在电弧蒸发工艺的优化开发以及PVT设备用户使用该技术产生的优势:

  ·全新的PDA* and HiParc**电弧技术应用
·缩短了50%以上的沉积时间
·提高了85%涂层设备生产率(如:沉积3微米厚的氮铝化钛膜层时间由原来的6.5小时缩短为3.5小时)
·靶材的利用率高达70%。

  xPro-L4镀膜系统

  采用最新开发的第三代电弧蒸发技术和高能脉冲电弧蒸发技术的真空超硬镀膜系统

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  xPro-L4 是最先进的工业化生产的大型真空镀膜系统,采用了最新开发的PDA* III-等离子扩散第三代电弧蒸发技术。专门设计用于在各种工具和模具以及磨蚀部件表面沉积高性能的耐磨,防腐,防磨蚀等冶金硬膜,如: AlCrN, AlCrSiN, AlTiSiN, AlCrN, AlTiN, CrN, TiC,N, TiN以及其它按客户要求开发的各类专用膜层。xPro-L4也具有“脉冲”高功率版本,即xPro-L4H(HiParc**-高能脉冲电弧),该机型采用的技术和电源包能够加速沉积速率,缩短工艺周期和极大的提高靶材的利用率。
 

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